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            環保知識

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            消耗臭氧層的物質有哪些?
            作者:http://www.5588jj.com/ 發布于:2013-12-13 14:12:26 點擊量:

             

            正常情況下,臭氧的生成和耗損同時存在,它們處于動態平衡,因而臭氧的濃度保持恒 定。然而由于人類的活動使大氣中某些微量成分的含量增加,破壞了臭氧層的穩定狀態,使 臭氧總量發生變化。能破壞臭氧層的物質主要有氮氧化物(NO-)、氯氟烴(CFCS)、溴氟 烴(Halons,俗稱哈龍)和一些自然活動產生的自由基HC\ (HOHH02)。

            NOi包括NON02N20等。NO:—部分來自于宇宙射線分解N2產生的,另一部 分來自于飛行器直接向平流層排放的污染物。

            CFCs又名氟利昂,是一種人造化學物質,用途廣泛。它們具有良好的化學和物理性 能,性質穩定,不燃、不爆,易于貯藏,安全低毒,不具有腐蝕作用,價格又較便宜,因此 在工農業及生活中被廣泛用作制冷劑、霧化劑、發泡劑和清潔劑等。用CFCs制造和加工的 各種產品,如空調、冰箱、各類氣霧罐以及其他電子產品已經走入了尋常百姓家。進入平流 層后,CFCs在短波紫外線的照射下發生光化學反應,參與了臭氧的損耗。含氯氟烴類化合 物中,三氯氟甲烷(CFC-11)和二氯二氟甲烷(CFC-12)用途最廣。

            哈龍主要包括CF3Br (哈龍1301)CF2BrCl (哈龍1211)和溴代甲烷(CH3Br,或標 記為MeBr),是平流層中溴原子的主要來源。在大氣中的壽命為幾十年,幾乎可以100%地 穿越對流層進人平流層中,并經紫外線照射后,分解出溴原子和相關的自由基,形成Br-BrO催化循環。CH3Br在對流層中主要為HO消耗一些,其余部分進入平流層。在平流層 中CH3Br經紫外線照射后也可分解出溴原子和相關的自由基,形成Br-BrO催化循環,詳見 下列方程式。表7-1列出了幾種對臭氧層有嚴重影響的化合物。

            CH3Br+HO^H20+CH2Br    (7-1)

            CH3Br+/iv^>CH3+Br    (7-2)

            7-1幾種對奧氧層有嚴重彩響的化合物

            ffc學物

            來源

            大氣中的 壽命/年

            化學物

            來源

            大氣中的 壽命/年

            CFC-1HCFC13>

            CFC-12(CF2C12)

            CFC-13(C2C13F3)

            Halon-1211(CFzBrCl)

            制冷、火箭的燃料氣溶膠 溶劑、發泡劑 溶劑 滅火器

            50  10 110  10 85  5 18

            Halon-130l(CF3Br) Halon-2402(CF2Br2四氣化碳(CC14)

            氮氧化物(NCU

            滅火器

            滅火器

            生產CFC及糧食熏煙處理 工業活動副產品

            >50年 2. 3 40

             

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